一、概述

光刻掩膜版，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

光学掩模板是在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（集成电路）、FPD（平板显示器）、PCB（印刷电路板）、MEMS（微机电系统）等。光掩模板主要由玻璃基板与遮光膜两部分组成，其中玻璃基板成本占整体材料成本的90%。光掩模玻璃基板是指用于制作光掩模板的空白玻璃，也被称作制版玻璃。

光掩模板材料成本分布

资料来源：智研咨询整理

集成电路是现代化工业的“大脑”，是国家科技战略的基础和工业发展的纽带，集成电路产业发展水平从一定程度上反映了国家创新制造水平。目前，国内电子信息产业持续高速发展，提升了我国集成电路行业的景气度，近年来，在国家政策的支持下，企业不断加大对集成电路的研发投入，中国集成电路产量不断扩大，2021年1-11月中国集成电路产量3295.1亿块，同比增长37.1%。

2011-2021年11月中国集成电路产量